ISBN/价格: | 978-7-122-43800-3:CNY198.00 |
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作品语种: | chi jpn |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 光刻胶材料评测技术/.(日)关口淳著/.方书农译 |
出版发行项: | 北京:,化学工业出版社:,2024 |
载体形态项: | 254页:;+图:;+26cm |
提要文摘: | 本书从光刻技术基础知识出发,系统介绍了多种类型光刻胶应用工艺、评测技术。具体包括光刻胶涂布、曝光工艺、曝光后烘烤和显影技术,以及g线和i线光刻胶、KrF和ArF光刻胶、ArF浸没式光刻胶、EUV光刻胶等的特征、应用工艺及评测技术,希望对国内的研究人员有很好的启发和指导意义。 |
题名主题: | 光致抗蚀剂 |
中图分类: | TQ572.4 |
个人名称等同: | 关口淳 (日) 著 |
个人名称次要: | 方书农 译 |
记录来源: | CN 湖北三新 20240530 |