书目详细信息
： 光学元件磁流变抛光理论与关键技术
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-118-12997-7:CNY128.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 光学元件磁流变抛光理论与关键技术/.石峰，宋辞著 |
| 出版发行项： | 北京:,国防工业出版社:,2023 |
| 载体形态项： | 20,292页:;+图，照片:;+24cm |
| 一般附注： | 国防科技图书出版基金 |
| 提要文摘： | 本书介绍了光学元件磁流变抛光理论与关键工艺，尤其重点介绍了离轴非球面光学元件磁流变抛光关键技术。第1-6章侧重介绍磁流变抛光的理论和工艺研究，主要针对高精度光学镜面磁流变抛光过程中的去除函数多参数模型、表面与亚表面质量控制、驻留时间高精度求解与实现、修形工艺优化方法等关键问题进行研究和实验验证；第7-12章以离轴非球面光学零件的高精高效制造为需求牵引，针对离轴非球面磁流变抛光过程中的关键理论和工艺问题开展研究。 |
| 并列题名： | Magnetorheological polishing theory and key technology of optical components eng |
| 题名主题： | 光学元件 抛光 研究 |
| 中图分类： | TH74 |
| 个人名称等同： | 石峰 著 |
| 个人名称等同： | 宋辞 著 |